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J-GLOBAL ID：200902232632955073   Reference number：03A0082517

Epitaxial LiNb_0.5Ta_0.5O₃ films on LiTaO₃ and LiNbO₃ substrates grown by thermal plasma.

LiTaO₃およびLiNbO₃基板上に熱プラズマで成長させたエピタクシーLiNb_0.5Ta_O0.5O₃薄膜

Author (8)： KULINICH S A (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  YAMAKI T (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  BYSAKH S (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  YAMAMOTO H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MITSUISHI K (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  SONG M (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  TERASHIMA K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  FURUYA K (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
Material： Journal of Crystal Growth  (J Cryst Growth)
Volume： 247  Issue： 3/4  Page： 408-418  Publication year： Jan. 2003 
JST Material Number： B0942A  ISSN： 0022-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (4)： 熱プラズマ ,  成長 ,  エピタクシー ,  薄膜