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J-GLOBAL ID：200902236752087119   Reference number：07A0215413

Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films with Controlled Hydrogen Densities-Application to Electric Field Emission Devices

水素密度を制御した水素化非晶質窒化炭素薄膜 電界放出素子への応用

Author (4)： ITO HARUHIKO (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  KOGURE YUKIHISA (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  OKI SATOSHI (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  SAITOH HIDETOSHI (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： New Diamond and Frontier Carbon Technology  (New Diam Front Carbon Technol)
Volume： 16  Issue： 5  Page： 255-266  Publication year： 2006 
JST Material Number： L1952A  ISSN： 1344-9931  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *glassy carbon ,...
Semi thesaurus term： cold cathode

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JST classification (3)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Electrolytic equipment  (XE02030E)

Terms in the title (8)： 水素 ,  密度 ,  水素化 ,  非晶質 ,  窒化 ,  炭素薄膜 ,  電界放出素子 ,  応用