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J-GLOBAL ID：200902239632849677   Reference number：03A0453779

Growth and Field-Emission Properties of Well-Aligned Carbon Nanotubes by Direct Current Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

直流プラズマ化学気相堆積法によるカーボンナノチューブの成長とその電界電子放出特性

Author (4)： KOGA MIZUHO (京都工繊大 工芸) ,  UEDA KEISUKE (京都工繊大 工芸) ,  HAYASHI YASUAKI (京都工繊大 工芸) ,  NISHINO SHIGEHIRO (京都工繊大 工芸)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 46  Issue： 5  Page： 412-415  Publication year： May. 20, 2003 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Carbon ,...
Semi thesaurus term： ホットフィラメントCVD ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Thermoionic emission and field emission  (BM09020S)

Substance index (1)： Methane

Reference (6)：

• IIJIMA, S. Nature. 1991, 354, 56
• IIJIMA, S. Nature. 1993, 363, 603
• DE HEER, W. A. Z. Phys. 1997, 40, 418
• HONG, W. J. Appl. Phys. 2000, 39, 925
• HAYASHI, Y. J. Vac. Sci. Tech, A. 2001, 19, 4, 1796

Terms in the title (5)： 直流 ,  プラズマ化学気相堆積 ,  カーボンナノチューブ ,  成長 ,  電界電子放出