Art

J-GLOBAL ID：200902240506906299   Reference number：08A0565631

Reduced Leakage Current and Ferroelectric Properties in Nd and Mn Codoped BiFeO₃ Thin Films

NdとMnを同時にドープしたBiFeO₃薄膜における漏洩電流の減少及び強誘電特性

Author (3)： KAWAE Takeshi (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  TSUDA Hisashi (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  MORIMOTO Akiharu (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 1  Issue： 5  Page： 051601.1-051601.3  Publication year： May. 25, 2008 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ferrate ,  *bismuth compound ,  *doping ,  neodymium ,  manganese ,  polycrystal ,  *laser deposition ,  substrate(plate) ,  strontium titanate ,  platinum ,  metallic thin film ,  X-ray diffraction ,  atomic force microscope ,  leakage current ,  *hysteresis ,  *residual polarization ,  *coercive electric field ,  pulsed laser deposition
Semi thesaurus term： *co-doping

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B)

Reference (15)：

• WANG, J. Science. 2003, 299, 1719
• WANG, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 2574
• YUN, K. Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 192902
• SINGH, S. K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, L734
• YUN, K. Y. J. Appl. Phys. 2004, 96, 3399

Terms in the title (7)： Nd ,  Mn ,  ドープ ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  漏洩電流 ,  強誘電特性