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J-GLOBAL ID：200902245842079670   Reference number：04A0816711

ミクロ反応場の生成と応用-マイクロプラズマ研究の現状と将来展望-

Author (1)： TACHIBANA KUNIHIDE (京大)
Material： プラズマ・核融合学会誌  (Journal of Plasma and Fusion Research)
Volume： 80  Issue： 10  Page： 825-826  Publication year： Oct. 25, 2004 
JST Material Number： G0114A  ISSN： 0918-7928  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma application ,...
Semi thesaurus term： plasma reaction ,...

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JST classification (1)： Applications of plasma  (BJ02110K)

Reference (8)：

• [1] K. Tachibana, J. Plasma Fusion Res 76, 435 (2000) in Japanese.
• [2] T. Ito, H. Fujiwara and K. Terashima, J. Appl. Phys. 94, 5411 (2003).
• [3] S. Katsuki, H. Akiyama, A. Abou-Ghazala and K.H. Schoenbach, IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insulat. 9, 498 (2002).
• [4] T. Yokoyama, T. Kuraoka, K. Takano, S. Ibuka, K. Yasuoka and S. Ishii, IEEJ Trans. FM 124, 80 (2004).
• [5] 堀田和明:レーザー研究 29, 638 (2001);(最新の研究状況については, EUVA ホームページ http://www.euva.or.jp を参照).

Terms in the title (6)： 反応場 ,  応用 ,  マイクロプラズマ ,  研究 ,  現状 ,  将来展望