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J-GLOBAL ID:200901045458520803   Update date: Jul. 05, 2022

Tachibana Kunihide

タチバナ クニヒデ | Tachibana Kunihide
Affiliation and department:
Research field  (4): Electric/electronic material engineering ,  Applied physics - general ,  Basic plasma science ,  Applied plasma science
Research keywords  (6): 半導体料料プロセス ,  プラズマ分光学 ,  プラズマエレクトロニクス ,  Processing of Semiconductors ,  Plasma Spectroscopy ,  Plasma Electronics
Research theme for competitive and other funds  (6):
  • プラズマディスプレイにおける放電現象の研究
  • 電子材料薄膜の作製過程と物性に関する研究
  • 半導体プロセス用反応性プラズマの分光計測
  • Study on Discharge Phenomena in Unit Cell of Plasma Display Panel
  • Study on Preparation Process and Properties of Thin Film Materials for Electronic Devices
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MISC (102):
Education (4):
  • - 1973 Kyoto University
  • - 1973 Kyoto University Graduate School, Division of Engineering
  • - 1968 Kyoto University Faculty of Engineering
  • - 1968 Kyoto University Faculty of Engineering
Professional career (1):
  • Doctor of Engineering
Committee career (4):
  • 2003 - 2004 日本真空協会 関西支部副支部長
  • 2004 - 応用物理学会 関西支部長
  • 2001 - 2003 応用物理学会 理事
  • 1990 - 1991 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会幹事長
Awards (3):
  • 1999 - 日本学術振興会プラズマ材料科学賞
  • 1997 - プラズマ化学賞(Plasma Chemistry Prize)
  • 1995 - 応用物理学会賞
Association Membership(s) (8):
IEEE ,  米国真空学会(American Vacuum Society) ,  照明学会 ,  レーザー学会 ,  日本真空協会 ,  電気学会 ,  日本分光学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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