Art

J-GLOBAL ID：200902253596218625   Reference number：03A0298821

Composite deposition of Co and Si clusters by rf/dc plasma-gas-codensation

rf/dcプラズマ-ガス-凝縮によるCoとSiの複合材料の堆積

Author (4)： KATOH R (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HIHARA T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  PENG D L (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  SUMIYAMA K (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 82  Issue： 16  Page： 2688-2690  Publication year： Apr. 21, 2003 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： glow discharge ,...
Semi thesaurus term： dc discharge

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JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Atomic and molecular clusters  (BH09030O)

Terms in the title (7)： RF ,  DCプラズマ ,  凝縮 ,  CO ,  Si ,  複合材料 ,  堆積