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J-GLOBAL ID：200902256067339238   Reference number：05A0426716

超臨界流体を用いた微細構造上への酸化物薄膜の堆積

Author (3)： SHIMIZU TAKASHI (産業技術総合研) ,  ISHII KEN'ICHI (産業技術総合研) ,  SUZUKI EIICHI (産業技術総合研)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 52nd  Issue： 2  Page： 727  Publication year： Mar. 29, 2005 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *SOI structure ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 超臨界流体 ,  微細構造 ,  酸化物薄膜 ,  堆積