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J-GLOBAL ID：200902256614622616   Reference number：04A0835662

Cerium Oxide Slurries in CMP. Electrophoretic Mobility and Adsorption Investigations of Ceria/Silicate Interaction

CMPにおける酸化セリウムスラリー セリア/けい酸塩相互作用の電気泳動移動度および吸着研究

Author (2)： SUPHANTHARIDA P (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  OSSEO-ASARE K (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 151  Issue： 10  Page： G658-G662  Publication year： 2004 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical polishing ,...

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JST classification (3)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Bases,metal oxides  (CD01030Z) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (9)： CMP ,  酸化セリウム ,  スラリー ,  セリア ,  けい酸塩 ,  相互作用 ,  電気泳動移動度 ,  吸着 ,  研究