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J-GLOBAL ID：200902260104536542   Reference number：03A0814080

Relationship between Crystal Structure and Electrical Properties of Nonuniform Al-Doped ZnO Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering

RFスパッタ法で作製した不均一AlドープZnO薄膜の結晶状態と電気特性との関係

Author (5)： SUGAWARA TOMOAKI (北海道工技セ) ,  SHIMONO ISAO (北海道工技セ) ,  TSUJINO JIRO (北海道電力) ,  HONMA NORIO (北海道電力) ,  FUKUDA HISASHI (室蘭工大)
Material： 日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
Volume： 111  Issue： 1299  Page： 831-836  Publication year： Nov. 01, 2003 
JST Material Number： F0382A  ISSN： 0914-5400  CODEN： JCSJEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *zinc oxide ,...
Semi thesaurus term： silica

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X)

Reference (19)：

• 1) Strehlow, W. H. and Cook, E. L., J. Phys. Chem. Ref. Data, Vol. 2, pp. 163-199 (1973).
• 2) Shirasaki, S., Ceramics Japan, Vol. 18, pp. 918-926 (1983) [in Japanese].
• 3) Minami, T., Oyo-Buturi, Vol. 61, pp. 1255-1258 (1992) [in Japanese].
• 4) Minami, T., Nanto, H., Sato, H. and Takata, S., Thin Solid Films, Vol. 164, pp. 275-279 (1988).
• 5) Minami, T., Sato, H., Imamoto, H. and Takata, S., Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 31, pp. L257-L260 (1992).

Terms in the title (7)： RFスパッタ法 ,  作製 ,  不均一 ,  AlドープZnO ,  薄膜 ,  結晶状態 ,  電気特性