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J-GLOBAL ID：200902267002462735   Reference number：08A1154595

Reflective properties of Mo/Si multilayer for EUV lithography deposited by the magnetron sputtering device with superconducting bulk magnets

超伝導バルク磁石を備えたマグネトロンスパッタリング装置により堆積した極端紫外リソグラフィのためのMo/Si多層の反射特性

Author (7)： YAMAGUCHI T. (Japan Sci. and Technol. Agency, Nagoya, JPN) ,  IKUTA H. (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TOMOFUJI T. (Nikon Corp., Sagamihara, JPN) ,  YANAGI Y. (IMRA Material R&D Co., Ltd., Kariya, JPN) ,  ITOH Y. (IMRA Material R&D Co., Ltd., Kariya, JPN) ,  OKA T. (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  MIZUTANI U. (Toyota Physical and Chemical Res. Inst., Aichi, JPN)
Material： Advances in Superconductivity  (Proceedings of the International Symposium on Superconductivity)
Volume： 20th  Page： 2170-2173  Publication year： 2008 
JST Material Number： L1458A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *high temperature superconductor ,  *superconducting magnet ,  *magnetron sputtering ,  extreme ultraviolet ,  lithography ,  *multilayer film ,  molybdenum ,  silicon ,  transmission electron microscope ,  atomic force microscope ,  *surface roughness ,  wafer ,  semiconductor material ,  *reflectivity ,  xenon
Semi thesaurus term： Si wafer ,  *bulk high temperature superconductor

JST classification (3)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A) ,  Superconducting magnets  (BM04042N)

Terms in the title (11)： 伝導 ,  バルク ,  磁石 ,  マグネトロンスパッタリング装置 ,  堆積 ,  極端紫外 ,  リソグラフィ ,  Mo ,  Si ,  多層 ,  反射特性