Art

J-GLOBAL ID：200902269590930734   Reference number：03A0204811

High-Resolution Blue-Laser Mastering Using an Inorganic Photoresist.

無機フォトレジストを用いる高分解能青色レーザマスタリング

Author (7)： KOUCHIYAMA A (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  ARATANI K (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  TAKEMOTO Y (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  NAKAO T (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  KAI S (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  OSATO K (Sony Corp., Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA K (Sony Corp., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 42  Issue： 2B  Page： 769-771  Publication year： Feb. 28, 2003 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,...
Semi thesaurus term： mastering ,...

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JST classification (2)： Electronic recording,magnetic recording,optical recording  (NC06020F) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Tetramethylammonium hydroxide

Reference (7)：

• 1) M. Takeda, M. Furuki, T. Ishimoto, K. Kondo, M. Yamamoto and S. Kubota: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 797.
• 2) S. Imanishi, T. Ishimoto, Y. Aki, T. Kondo, K. Kishima, K. Yamamoto and M. Yamamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 800.
• 3) Y. Wada, M. Katsumura, Y. Kojima, H. Kitahara and T. Iida: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 1653.
• 4) G. Reynolds and G. Cartwright: Proc. SPIE 4090 (2000) 2.
• 5) D. A. Doane and A. Heller: Proc. Symp. Inorganic Resist Systems (The Electrochemical Society, Inc., 1982).

Terms in the title (4)： フォトレジスト ,  高分解能 ,  青色レーザ ,  マスタリング