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J-GLOBAL ID：200902273734044421   Reference number：04A0003003

Formation of indium oxide thin films fabricated by a dip-coating process using indium 2-ethylhexanoate monohydroxide

インジウム2-エチルヘキサノエートモノヒドロキシドを用いたディップコーティング法によって作製した酸化インジウム薄膜

Author (9)： SHIGENO E (Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  SEKI S (Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  SHIMIZU K (Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  SAWADA Y (Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  OGAWA M (Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  SHIDA A (Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN) ,  IDE M (Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN) ,  YAJIMA A (Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN) ,  YOSHINAKA A (Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 169/170  Page： 566-570  Publication year： Jun. 02, 2003 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： dipping ,...
Semi thesaurus term： ITO(solid solution)

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Substance index (1)： Bis(2-ethylhexanoic acid)(hydroxy) indium(III) salt

Terms in the title (5)： インジウム ,  ディップコーティング法 ,  作製 ,  酸化インジウム ,  薄膜