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J-GLOBAL ID：200902273923547701   Reference number：05A0704010

Patterning the Surface Cytophobicity of an Albumin-Physisorbed Substrate by Electrochemical Means

電気化学的方法によるアルブミン物理吸着基板の細胞疎外性(cytophobicity)パターン化

Author (5)： KAJI Hirokazu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TSUKIDATE Kazuto (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HASHIMOTO Masahiko (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MATSUE Tomokazu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  NISHIZAWA Matsuhiko (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Langmuir  (ACS Journal of Fundamental Interfaces Science)
Volume： 21  Issue： 15  Page： 6966-6969  Publication year： Jul. 19, 2005 
JST Material Number： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *pattern formation ,...

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JST classification (2)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Cytology in general  (EF01000A)

Substance index (1)： 1-Octadecanethiol

Terms in the title (6)： 電気化学 ,  アルブミン ,  物理吸着 ,  細胞 ,  疎外 ,  パターン化