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J-GLOBAL ID：200902280754180115   Reference number：07A0911803

Preparation of Visible-light Responsive Photocatalyst Thin Film by Combination of Atmosphere-Controlled Pulsed Laser Deposition and Chemical Vapor Reductive Deposition.

雰囲気制御型PLD法とCVRD法による可視光応答性光触媒薄膜作製

Author (6)： MURAMATSU ATSUSHI (東北大 多元物質科研) ,  YOSHINAGA MASAKI (東北大 多元物質科研) ,  SATO NOBUAKI (東北大 多元物質科研) ,  YAMAMOTO KATSUTOSHI (東北大 多元物質科研) ,  MORIKAWA TAKESHI (豊田中研) ,  AOKI KOYU (豊田中研)
Material： 触媒  (Catalysts & Catalysis)
Volume： 49  Issue： 6  Page： 477-479  Publication year： Sep. 05, 2007 
JST Material Number： F0319A  ISSN： 0559-8958  CODEN： SHKUAJ  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *titanium oxide ,...
Semi thesaurus term： CVD ,...

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JST classification (2)： Photochemical reactions  (CB08020F) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Substance index (1)： Ethanol

Reference (4)：

• MYAGMARJAV, S. Materials Transactions. 2003, 44, 2414
• YOSHINAGA, M. J. Colloid Interface Sci. 2007, 309, 149
• ASAHI, R. Science. 2001, 293, 269
• ZIOLOCK, M. J. Mol. Cat., A : Chem. 1995, 97, 49

Terms in the title (7)： 雰囲気 ,  制御型 ,  PLD法 ,  可視光 ,  応答性 ,  光触媒 ,  薄膜作製