Art

J-GLOBAL ID：200902290568589270   Reference number：03A0538853

Epitaxial self-assembly of block copolymers on lithographically defined nanopatterned substrates.

リソグラフフィーで規定したナノパターンをもつ基板上のブロック共重合体のエピタキシャル自己集合

Author (6)： KIM S O (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  SOLAK H H (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  STOYKOVICH M P (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  FERRIER N J (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  DE PABLO J J (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  NEALEY P F (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
Material： Nature (London)  (Nature (Lond))
Volume： 424  Issue： 6947  Page： 411-414  Publication year： Jul. 24, 2003 
JST Material Number： D0193B  ISSN： 0028-0836  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *block copolymer ,...
Semi thesaurus term： ナノパターン

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JST classification (2)： Thin films of organic compounds  (BK14070L) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 規定 ,  ナノパターン ,  ブロック共重合体 ,  エピタキシャル ,  自己集合