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J-GLOBAL ID：200902291477005329   Reference number：04A0211779

Study on Decay Characteristics of OH Radical Density in Pulsed Discharge in Ar/H₂O

Ar/H₂O中でのパルス放電におけるOHラジカル密度の減衰特性の研究

Author (3)： TOCHIKUBO F (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN) ,  UCHIDA S (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN) ,  WATANABE T (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 1  Page： 315-320  Publication year： Jan. 15, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *pulsed discharge ,...
Semi thesaurus term： laser-induced fluorescence

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JST classification (2)： Gas discharges  (BJ03020T) ,  Visible and ultraviolet spectra of molecules in general  (BH06041V)

Reference (18)：

• 1) A. Ershov and J. Borysow: J. Phys. D 28 (1995) 68.
• 2) R. Ono and T. Oda: IEEE Trans. Ind. Appl. 37 (2001) 709.
• 3) R. Ono and T. Oda: J. Phys. D 35 (2002) 2133.
• 4) C. Hibert, I. Gaurand, O. Motret and J. M. Pouvesle: J. Appl. Phys. 85 (1999) 7070.
• 5) F. Tochikubo and T. Watanabe: Proc. 7th Int. Symp. High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Greifswald, 2000, p. 219.

Terms in the title (7)： Ar ,  H2O ,  パルス放電 ,  OHラジカル ,  密度 ,  減衰特性 ,  研究