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J-GLOBAL ID：200902293321790592   Reference number：03A0737450

Preparation of Ba(Ti,Zr)O₃ Thick Films on Silicon Substrate by Screen Printing

スクリーン印刷によるシリコン基板上へのBa(Ti,Zr)O₃厚膜の作製

Author (4)： FUTAKUCHI T (Toyama Industrial Technol. Center, Toyama, JPN) ,  SAKAI Y (Toyama Industrial Technol. Center, Toyama, JPN) ,  FUJITA N (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  ADACHI M (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 42  Issue： 9B  Page： 5904-5907  Publication year： Sep. 30, 2003 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ferroelectrics ,...
Semi thesaurus term： electrostriction ,...

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JST classification (2)： Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (12)：

• 1) S. Wada, S. Suzuki, T. Noma, T. Suzuki, M. Osada, M. Kakihana, S.-E. Park, L. E. Cross and T. R. Shrout: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 5505.
• 2) S.-E. Park, S. Wada , L. E. Cross and T. R. Shrout: J. Appl. Phys. 86 (1999) 2746.
• 3) T. Ogawa: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 5630.
• 4) P. W. Rehrig, S.-E. Park, S. T.-Mckinstry, G. L. Messing, B. Jones and T. R. Shrout: J. Appl. Phys. 86 (1999) 1657.
• 5) J. Thongrueng, T. Tsuchiya, Y. Masuda, S. Fujita and K. Nagata: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 5309.

Terms in the title (8)： スクリーン印刷 ,  シリコン基板 ,  Ba ,  Ti ,  Zr ,  O3 ,  厚膜 ,  作製