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J-GLOBAL ID：200902294114081006   Reference number：04A0477446

Fabrication of vertically aligned carbon nanowalls using capacitively coupled plasma-enhanced chemical vapor deposition assisted by hydrogen radical injection

水素ラジカル注入に支援された容量結合プラズマ増強化学蒸着を用いた垂直整列カーボンナノウオールの製作

Author (4)： HIRAMATSU M (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  SHIJI K (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  AMANO H (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 84  Issue： 23  Page： 4708-4710  Publication year： Jun. 07, 2004 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nanostructure ,...
Semi thesaurus term： silica ,...

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JST classification (3)： Atomic and molecular clusters  (BH09030O) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Irradiational changes semiconductors  (BK16123E)

Substance index (1)： Methane

Terms in the title (7)： 水素ラジカル ,  注入 ,  支援 ,  容量結合 ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  垂直整列 ,  製作