Art

J-GLOBAL ID：200902294905697647   Reference number：07A0028670

Two-way Shape Memory Behavior of Sputter-deposited Ni-rich Ni₂MnGa Films

スパッタ蒸着Ni-rich Ni₂MnGa膜の二方向形状記憶挙動

Author (3)： OHTSUKA Makoto (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MATSUMOTO Minoru (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ITAGAKI Kimio (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Journal of Intelligent Material Systems and Structures  (J Intelligent Mater Syst Struct)
Volume： 17  Issue： 12  Page： 1069-1074  Publication year： Dec. 2006 
JST Material Number： W0165A  ISSN： 1045-389X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *sputtered deposition ,...
Semi thesaurus term： Curie point

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Other metallography  (WB01040Y)

Terms in the title (6)： スパッタ蒸着 ,  Ni ,  RICH ,  二方向 ,  形状記憶 ,  挙動