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J-GLOBAL ID：200902299349602820   Reference number：09A0171626

Large Area, Few-Layer Graphene Films on Arbitrary Substrates by Chemical Vapor Deposition

化学気相蒸着による任意の基板上の大面積で数層のグラフェン膜

Author (8)： REINA Alfonso (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  JIA Xiaoting (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  HO John (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  NEZICH Daniel (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  SON Hyungbin (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  BULOVIC Vladimir (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  DRESSELHAUS Mildred S. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  KONG Jing (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
Material： Nano Letters  (Nano Lett)
Volume： 9  Issue： 1  Page： 30-35  Publication year： Jan. 2009 
JST Material Number： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *Graphite ,  *thin film ,  Nickel ,  atomic force microscope ,  etching ,  transmission electron microscope ,  Microscopy ,  transmissivity ,  electrical conductivity ,  *pattern formation ,  Raman spectrum ,  wet etching ,  *graphene

JST classification (2)： Surface chemistry in general  (CB12010J) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： 化学 ,  気相蒸着 ,  大面積 ,  グラフェン膜