Art

J-GLOBAL ID：200902299534143785   Reference number：05A0639387

Light-emitting Si films formed by neutral cluster deposition in a thin O₂ gas

低圧O₂ガス中での中性クラスター堆積によって形成された発光性Si薄膜

Author (5)： HONDA Y. (Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN) ,  TAKEI M. (Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN) ,  OHNO H. (Dep. of Physics, Tokyo National Coll. of Technol., Hachiouji, Tokyo 193-8610, JPN) ,  SHIDA S. (Cooperative Res. Center, Iwaki Meisei Univ., Iwaki, Fukushima 970-8551, JPN) ,  GODA K. (Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN)
Material： Journal of Luminescence  (J Lumin)
Volume： 113  Issue： 3-4  Page： 279-284  Publication year： Jun. 2005 
JST Material Number： D0731A  ISSN： 0022-2313  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,...
Semi thesaurus term： silica

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0639387&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0731A") }}

JST classification (2)： Luminescence of semiconductors  (BM08092S) ,  Inorganic compounds and elements in general  (CD01010D)

Terms in the title (5)： 低圧 ,  O2 ,  中性クラスター ,  堆積 ,  Si薄膜