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J-GLOBAL ID：200902299895483955   Reference number：04A0537682

Photochemical Modification of Silicone Films Using F₂ Laser for Selective Chemical Etching

選択的化学エッチングにF₂レーザを使ったシリコーンフィルムの光化学的表面改質

Author (5)： OKOSHI M (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  KIMURA T (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  TAKAO H (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  INOUE N (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  YAMASHITA T (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 6A  Page： 3438-3442  Publication year： Jun. 15, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *polysiloxane ,...
Semi thesaurus term： silicone

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JST classification (2)： Laser irradiation effects and damages  (BK16040S) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (14)：

• 1) K. Takahashi, K. Orita, K. Matsumura and K. Yasuda: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) L1104.
• 2) S.-H. Son, Y.-S. Park and S.-Y. Choi: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4022.
• 3) B. N. Chichkov, C. Momma, S. Nolte, F. von Alvensleben and A. Tünnermann: Appl. Phys. A 63 (1996) 109.
• 4) M. Okoshi and N. Inoue: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 5642.
• 5) P. R. Herman, R. S. Marjoribanks, A. Oettl, K. Chen, I. Konovalov and S. Ness: Appl. Surf. Sci. 154/155 (2000) 577.

Terms in the title (6)： 化学エッチング ,  F2レーザ ,  シリコーン ,  フィルム ,  光化学 ,  表面改質