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J-GLOBAL ID：200903000022640173

深紫外レーザー光の発生方法および深紫外レーザー装置

Inventor： 金田 有史 ,  浦田 佳治 ,  和田 智之
Applicant, Patent owner： 株式会社メガオプト
Agent (1)： 上島 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005271429
Publication number (International publication number)：2007086108
Application date： Sep. 20, 2005
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：

【課題】深紫外域の波長の深紫外レーザー光を効率よく発生させ、高出力化する。【解決手段】1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、上記第4高調波と1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、上記和周波発生により発生したレーザー光と上記1.4〜1.5μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、上記1μm帯とは1063〜1065nmであり、上記1.4〜1.5μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

1μm帯の波長のレーザー光の第4高調波を発生し、前記第4高調波と1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生によりレーザー光を発生し、前記和周波発生により発生したレーザー光と前記1.4μm帯の波長のレーザー光との和周波発生により波長が200nm以下のレーザー光を発生する深紫外レーザー光の発生方法において、 前記1μm帯とは1063〜1065nmであり、前記1.4μm帯とは1410〜1424nmであって、波長が200nm以下のレーザー光として波長193.3〜193.5nmのレーザー光を発生する ことを特徴とする深紫外レーザー光の発生方法。

IPC (2)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/109

FI (2)：

G02F1/37 ,  H01S3/109

F-Term (14)：

2K002AB12 ,  2K002BA04 ,  2K002CA02 ,  2K002DA01 ,  2K002HA20 ,  5F172AE13 ,  5F172AF03 ,  5F172AM08 ,  5F172EE13 ,  5F172NQ64 ,  5F172NR22 ,  5F172NR24 ,  5F172ZZ01 ,  5F172ZZ02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光源装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-315087   Applicant：株式会社ニコン
• 光源装置及び光照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-189435   Applicant：株式会社ニコン
• レーザ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-258126   Applicant：株式会社ニコン, 古河電気工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザ工学入門, 19970801, pp.220-222