ケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：津国肇 , 篠田文雄 , 束田幸四郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004513386
Publication number (International publication number)：2005529835
Application date： Jun. 16, 2003
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：

本発明は、SiOy(0.70≦y≦1.8)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造(ケイ素/酸化ケイ素フレーク)又はSiOx(0.03≦x≦0.95)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造、その製造方法及び干渉顔料の製造のためのその使用に関する。

Claim (excerpt)：

SiOy(0.70≦y≦1.8)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造又はSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.50、とりわけ0.10≦x≦0.30)の面平行な構造を無酸素雰囲気中400°Cを超える温度で加熱することによって得られるケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造。

IPC (6)：

C01B33/113 , A61K7/00 , C08K3/34 , C08L101/00 , C09C1/28 , C09D11/00

FI (6)：

C01B33/113 Z , A61K7/00 B , C08K3/34 , C08L101/00 , C09C1/28 , C09D11/00

F-Term (63)：

4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083BB21 , 4C083CC01 , 4C083DD17 , 4C083DD21 , 4C083EE07 , 4C083FF01 , 4G072AA24 , 4G072BB05 , 4G072GG03 , 4G072HH01 , 4G072HH13 , 4G072HH14 , 4G072JJ28 , 4G072MM01 , 4G072MM21 , 4G072MM22 , 4G072MM23 , 4G072MM26 , 4G072MM28 , 4G072MM31 , 4G072MM36 , 4G072TT30 , 4G072UU07 , 4G072UU30 , 4J002AB011 , 4J002AB021 , 4J002AB031 , 4J002AC001 , 4J002AC121 , 4J002BB021 , 4J002BB061 , 4J002BB111 , 4J002BB181 , 4J002BC021 , 4J002BD031 , 4J002BF021 , 4J002BG041 , 4J002BG061 , 4J002BG091 , 4J002BN151 , 4J002CC161 , 4J002CC181 , 4J002CF001 , 4J002CF211 , 4J002CK021 , 4J002CL001 , 4J002CP031 , 4J002DJ006 , 4J002DJ016 , 4J002FD096 , 4J002GB00 , 4J002GH00 , 4J002GH01 , 4J037AA17 , 4J037AA18 , 4J037CA08 , 4J037EE25 , 4J037EE47 , 4J039BA21 , 4J039BE01 , 4J039GA24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

着色光沢顔料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-107990 Applicant：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

Cited by examiner (1)

着色光沢顔料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-107990 Applicant：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

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