化粧料の製造法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：小堀益 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001103968
Publication number (International publication number)：2002302420
Application date： Apr. 02, 2001
Publication date： Oct. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】不純物の生成を抑え、かつ皮膚の新陳代謝を高めて肌本来の美しさを引き出す化粧料を提供する。【解決手段】金属イオンを除去した天然植物抽出成分および保湿剤などを含有する組成物を一次ろ過し、炭酸水素イオン形を含む強塩基性陰イオン交換樹脂に接触させたのち、二次ろ過し、化粧料とする。天然植物抽出成分としては、カミツレ、ローズ、ハマメリス、ヘチマあるいはアロエの抽出原液をイオン交換樹脂処理したものが好ましく、保湿剤としては、グリセロール、ヒアルロン酸、ヒアルロン酸の塩、アミノ酸、アミノ酸の塩、トレハロース、トレハロース脂肪酸エステル、ソルビトール、またはこれらの誘導体であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

金属イオンを除去した天然植物抽出成分および保湿剤を含有する組成物を一次ろ過し、炭酸水素イオン形を含む強塩基性陰イオン交換樹脂に接触させたのち二次ろ過する化粧料の製造法。

IPC (2)：

A61K 7/00 , A61K 7/48

FI (6)：

A61K 7/00 Z , A61K 7/00 C , A61K 7/00 F , A61K 7/00 K , A61K 7/00 L , A61K 7/48

F-Term (22)：

4C083AA111 , 4C083AA112 , 4C083AC072 , 4C083AC102 , 4C083AC121 , 4C083AC122 , 4C083AC131 , 4C083AC132 , 4C083AC172 , 4C083AC302 , 4C083AC441 , 4C083AC472 , 4C083AC482 , 4C083AC581 , 4C083AC792 , 4C083AD331 , 4C083CC04 , 4C083DD23 , 4C083DD27 , 4C083EE03 , 4C083EE06 , 4C083EE10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152722 Applicant：株式会社地の塩社
超純水の比抵抗調整方法及びこれを用いた純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-211394 Applicant：オルガノ株式会社
水の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-274078 Applicant：オルガノ株式会社

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