露光装置及び露光方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999098412
Publication number (International publication number)：2000292942
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】高スペース効率でプリント配線基板Wを分割して露光できる露光装置を提供する。【解決手段】プリント配線基板Wを任意の領域に分割し、各領域毎にマスク1との位置合わせを行い、ガラスマスク1のマスク外周部FMを遮光板20、21、22、23により適宜遮光し、マスク1のパターンを焼き付ける。

Claim (excerpt)：

被露光基板を載置する基台装置と、該基台上の被露光基板に投影する所定のパターンを備え、前記被露光基板に接触又は近接可能に位置するマスクと、前記マスクと前記基台の少なくとも一方を移動させ、両者の相対的な位置関係を変更設定する移動装置と、前記露光基板を前記マスクに対応して任意の領域に区分し、前記移動装置を制御して該領域毎に前記マスクと被露光基板との位置合わせを行う位置合わせ装置と、前記マスクのパターンを基台装置上の被露光基板に投影させる光源装置と、前記マスクの任意の位置を露光させる露光調整装置と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (4)：

G03F 9/00 , G03F 7/22 , H01L 21/027 , H05K 3/00

FI (4)：

G03F 9/00 Z , G03F 7/22 Z , H05K 3/00 H , H01L 21/30 502 C

F-Term (9)：

2H097GA03 , 2H097GA45 , 2H097KA03 , 2H097LA09 , 5F046AA11 , 5F046AA16 , 5F046AA25 , 5F046CB05 , 5F046DD03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭58-215025
特開昭59-037545
特開昭62-235952

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