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J-GLOBAL ID：200903000136156751

一級アミンの製造方法および一級アミン製造用触媒

Inventor： 天川 和彦 ,  山本 良亮
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Agent (1)： 永井 隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007195982
Publication number (International publication number)：2008063326
Application date： Jul. 27, 2007
Publication date： Mar. 21, 2008
Summary：

【課題】縮合生成物を与える副反応を抑制して高い収率でニトリルから一級アミンを製造する方法を提供する。 【解決手段】ニッケル、コバルトおよび鉄から選ばれる一種以上の金属を含有する水素化触媒を炭化水素化合物、天然ガス、アルコール、エーテル、エステル、および一酸化炭素から選ばれる少なくとも一種の処理剤を用いて150〜500°Cで前処理して前処理水素化触媒を得る工程、および、該前処理水素化触媒の存在下で水素とニトリルを反応させる工程を含む一級アミンの製造方法、ならびに該一級アミン製造用触媒。 【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

ニッケル、コバルトおよび鉄から選ばれる一種以上の金属を含有する水素化触媒を炭化水素化合物、天然ガス、アルコール、エーテル、エステル、および一酸化炭素から選ばれる少なくとも一種の処理剤を用いて150〜500°Cで前処理して前処理水素化触媒を得る工程、および、該前処理水素化触媒の存在下で水素とニトリルを反応させる工程を含む一級アミンの製造方法。

IPC (5)：

C07C 209/48 ,  C07C 211/27 ,  B01J 21/16 ,  B01J 25/02 ,  B01J 37/00

FI (5)：

C07C209/48 ,  C07C211/27 ,  B01J21/16 Z ,  B01J25/02 Z ,  B01J37/00 Z

F-Term (47)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169AA14 ,  4G169BA09B ,  4G169BA21C ,  4G169BB01C ,  4G169BB03B ,  4G169BC31B ,  4G169BC58B ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BD02C ,  4G169BD04C ,  4G169BE02C ,  4G169BE06C ,  4G169BE07C ,  4G169BE09C ,  4G169CB25 ,  4G169CB77 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA08 ,  4G169FB06 ,  4G169FB09 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4G169FB64 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA61 ,  4H006BA81 ,  4H006BE20 ,  4H039CA71 ,  4H039CB90 ,  4H039CF40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (20)

• 特開平7-518900号公報
  
• 一級アミンの製造方法および接触還元用触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-129904   Applicant：川研ファインケミカル株式会社
• 米国特許出願公開2005/0159624号明細書
  
• 特公昭40-10133号公報
  
• 特許第2937083号公報
  
• 特開平7-517801号公報
  
• 特公昭53-20969号公報
  
• 有機ニトリルおよび/またはイミンを水素化するためのコバルト触媒および有機ニトリルおよび/またはイミンを水素化する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115057   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 水素化触媒
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-534529   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭51-6971号公報
  
• 特公昭38-8719号公報
  
• 特開昭54-41804号公報
  
• 水素化触媒の改変方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-381757   Applicant：エフ.ホフマン-ラロシュアーゲー
• アミノニトリルの製造
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-536689   Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 芳香族シアノメチルアミンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-015106   Applicant：昭和電工株式会社
• 芳香族シアノメチルアミンの製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-197692   Applicant：昭和電工株式会社
• ニトリルを水素化することによって第一アミンを製造する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-569597   Applicant：クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
• 特公昭40-010133
  
• 特開昭54-041804
  
• キシリレンジアミンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-061241   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社

Cited by examiner (11)

• アミノニトリルの製造
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-536689   Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 芳香族シアノメチルアミンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-015106   Applicant：昭和電工株式会社
• 芳香族シアノメチルアミンの製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-197692   Applicant：昭和電工株式会社
• 水素化触媒の改変方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-381757   Applicant：エフ.ホフマン-ラロシュアーゲー
• 一級アミンの製造方法および接触還元用触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-129904   Applicant：川研ファインケミカル株式会社
• ニトリルを水素化することによって第一アミンを製造する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-569597   Applicant：クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
• 特公昭40-010133
  
• 特公昭40-010133
  
• 特開昭54-041804
  
• 特開昭54-041804
  
• キシリレンジアミンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-061241   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社