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J-GLOBAL ID:200903000294195489
膜または層を形成するための方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山本 秀策
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000585350
Publication number (International publication number):2002531913
Application date: Dec. 01, 1999
Publication date: Sep. 24, 2002
Summary:
【要約】有機金属錯体の膜を形成するための改良された方法であり、ここでは、有機錯体および不安定な金属塩が、一緒にまたは連続して気化され、そしてその蒸気は基板上へ凝縮され、その基板上に有機金属錯体の膜または層を形成する。この基板上に有機金属錯体の膜または層を形成する方法は、その基板上に有機金属錯体の膜または層を形成するために、金属化合物を気化する工程、有機錯体を気化する工程、および基板上へその蒸気を凝縮する工程を包含する。この方法は、改良された性能でエレクトロミネッセンスの膜を生成する。
Claim (excerpt):
基板上に有機金属錯体の膜または層を形成するための方法であって、該方法は、金属化合物を気化する工程、および有機錯体を気化する工程、およびその蒸気を基板上へ凝縮し、該基板上に該有機金属錯体の膜または層を形成する工程を包含する方法。
IPC (3):
H05B 33/10
, C09K 11/06 660
, H05B 33/14
FI (3):
H05B 33/10
, C09K 11/06 660
, H05B 33/14 B
F-Term (8):
3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
電界発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-150473
Applicant:カシオ計算機株式会社
Cited by examiner (1)
-
電界発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-150473
Applicant:カシオ計算機株式会社
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