Pat
J-GLOBAL ID:200903000423238246
酸化珪素膜で被覆された光触媒を含有する調湿セラミックス材料
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006218635
Publication number (International publication number):2008043829
Application date: Aug. 10, 2006
Publication date: Feb. 28, 2008
Summary:
【課題】 有害ガス成分を吸着し、光触媒による有害ガス成分分解作用を有した調湿セラミックス材料を提供すること。【解決手段】 光触媒を含む調湿セラミックス材料であって、該光触媒が、光触媒活性を有する基体と、該基体を被覆する、実質的に細孔を有しない酸化珪素膜とを有し、アルカリ金属含有量が1ppm以上1000ppm以下である、調湿セラミックス材料とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
光触媒を含む調湿セラミックス材料であって、
該光触媒が、
光触媒活性を有する基体と、
該基体を被覆する、実質的に細孔を有しない酸化珪素膜からなり、且つ
該光触媒のアルカリ金属含有量が1ppm以上1000ppm以下である、
光触媒含有調湿セラミックス材料。
IPC (6):
B01J 35/02
, C04B 41/85
, B01D 53/86
, A61L 9/00
, A61L 9/01
, B01D 53/28
FI (6):
B01J35/02 J
, C04B41/85 D
, B01D53/36 J
, A61L9/00 C
, A61L9/01 B
, B01D53/28
F-Term (69):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080CC02
, 4C080HH05
, 4C080JJ03
, 4C080KK08
, 4C080LL03
, 4C080MM02
, 4C080NN02
, 4C080QQ03
, 4D048AA22
, 4D048AB03
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA10X
, 4D048BA11X
, 4D048BA14X
, 4D048BB01
, 4D048EA01
, 4D052AA08
, 4D052GB18
, 4D052HA00
, 4D052HA03
, 4D052HA23
, 4D052HA24
, 4D052HB02
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01B
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BA13A
, 4G169BA16A
, 4G169BA16B
, 4G169BA48A
, 4G169BA48C
, 4G169BC02A
, 4G169BC02B
, 4G169BC03A
, 4G169BC19A
, 4G169BC19B
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169CA10
, 4G169CA17
, 4G169EA02X
, 4G169EA02Y
, 4G169EC03X
, 4G169EC03Y
, 4G169EC11X
, 4G169EC12X
, 4G169EC13X
, 4G169FB14
, 4G169FB30
, 4G169HA03
, 4G169HA04
, 4G169HA05
, 4G169HB02
, 4G169HB03
, 4G169HC29
, 4G169HD02
, 4G169HE03
, 4G169HE06
, 4G169HE07
, 4G169HF09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
-
特開平4-354514号公報
-
特開平3-109244号公報
-
珪質頁岩を利用した調湿消臭材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-030811
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 鈴木産業株式会社
-
特開平3-93662号公報
-
調湿建材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-283143
Applicant:工業技術院長, 株式会社イナックス
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調湿セラミックス材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-280133
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, ジャニス工業株式会社
-
特開昭62-260717号公報
-
塩基性ガス除去用酸化チタン光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-359859
Applicant:テイカ株式会社
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