Pat
J-GLOBAL ID:200903055927649939

塩基性ガス除去用酸化チタン光触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 赤岡 迪夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000359859
Publication number (International publication number):2002159865
Application date: Nov. 27, 2000
Publication date: Jun. 04, 2002
Summary:
【要約】【課題】 酸化チタン光触媒の塩基性ガスに対する除去性能を高める。【解決手段】 光触媒活性を有する酸化チタン粒子をコアとし、これをシリカ水和物で被覆する。シリカ水和物の被覆量は選択的に吸着した塩基性ガスがコアの活性サイトへ効率的に供給され、光触媒全体の塩基性ガス除去能力が高められるように調節される。
Claim (excerpt):
光触媒活性を有する酸化チタン粒子よりなるコアと、該コアを取り巻くシリカ水和物の被覆層を有し、該被覆層は塩基性ガスを選択的に吸着し、これを酸化チタンコアの活性サイトへ効率的に供給することによって光触媒全体の塩基性ガス除去能力を高めるように機能することを特徴とする塩基性ガス除去用酸化チタン光触媒。
IPC (5):
B01J 35/02 ZAB ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/18 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/08
FI (5):
B01J 35/02 ZAB J ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/18 ,  B01J 21/08 A ,  B01D 53/36 J
F-Term (34):
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC08 ,  4C080CC09 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL03 ,  4C080MM02 ,  4C080NN06 ,  4C080QQ20 ,  4D048AA17 ,  4D048BA06X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA41Y ,  4D048BB17 ,  4D048BC07 ,  4D048EA01 ,  4D048EA04 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA11 ,  4G069EC03X ,  4G069EC03Y ,  4G069EE01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page