ポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：絹谷信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001067284
Publication number (International publication number)：2002267865
Application date： Mar. 09, 2001
Publication date： Sep. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】吸収損失が少ないポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】ポリマ光導波路用のポリマ膜2を加熱すると共に、マイクロ波を照射することによりポリマ膜2が表面及び内部から発熱するので、ポリマ膜2に十分な脱水酸基化処理が施され、吸収損失が減少する。

Claim (excerpt)：

ポリマ光導波路用のポリマ膜を加熱すると共に、マイクロ波を照射して上記ポリマ膜に脱水酸基化処理を施すことを特徴とするポリマ膜中の脱水酸基化処理方法。

IPC (4)：

G02B 6/13 , C08J 7/00 CEY , C08J 7/00 302 , C08L 33:06

FI (4)：

C08J 7/00 CEY Z , C08J 7/00 302 , C08L 33:06 , G02B 6/12 M

F-Term (14)：

2H047KA04 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 2H047TA31 , 4F073AA32 , 4F073BA18 , 4F073BA22 , 4F073BA31 , 4F073BA33 , 4F073BA34 , 4F073BB01 , 4F073CA53 , 4F073CA65 , 4F073DA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-214505
特開平1-183435
特開昭62-123036

Show all

Return to Previous Page