Pat
J-GLOBAL ID:200903000599442427
エアフィルタ濾材
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004118558
Publication number (International publication number):2005296860
Application date: Apr. 14, 2004
Publication date: Oct. 27, 2005
Summary:
【課題】 半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材であって、低圧力損失(高通気量)で、且つ小型、軽量化が可能であり、シール材を用いる必要がないエアフィルタ濾材を提供する。【解決手段】 半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材として、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔質膜を使用する。PTFE多孔質膜としては、捕集効率が99.99999%以上で、圧力損失が0.2〜1kPaのものを使用することが好ましい。また、PTFE多孔質膜は、2枚以上積層し、かつこれらを接着などで一体化せずに使用することが好ましい。【選択図】なし
Claim (excerpt):
半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材であって、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔質膜を含むことを特徴とするエアフィルタ濾材。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (9):
4D006GA44
, 4D006HA42
, 4D006HA91
, 4D006JA30Z
, 4D006MB20
, 4D006MC30X
, 4D006NA34
, 4D006NA39
, 4D006PC01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
エアフィルタ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-319240
Applicant:株式会社荏原製作所
-
積層金属濾材とその製造方法、並びに該濾材によるフィルターエレメント
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-136174
Applicant:日本精線株式会社
-
半導体製造プロセスガス用濾過部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-219383
Applicant:日本精線株式会社
Return to Previous Page