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J-GLOBAL ID：200903000651966545

欠陥検査装置及びその方法

Inventor：
石浦 資昭

About 石浦 資昭

, 
宮崎 邦彦

About 宮崎 邦彦

, 
一藤 克己

About 一藤 克己


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 小島 俊郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002144016
Publication number (International publication number)：2003075363
Application date： May. 20, 2002
Publication date： Mar. 12, 2003
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、効率良く凹凸状欠陥と濃淡ムラ状欠陥を検査して過剰検査によるロスを低減できる欠陥検査装置及びその方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の欠陥検査装置は、被検査物の表面に光を同軸落射照射する第1の光源(6)と、被検査物からの正反射光を受光して第1の電気信号に変換する第1の撮像手段(10)とを含む第1の光学系と、被検査物に光を斜射照明する第2の光源(11)と、被検査物からの散乱光を受光して第2の電気信号に変換する第2の撮像手段(13)とを含む第2の光学系と、第1の撮像手段からの第1の電気信号と予め設定された第1の閾値とを比較して被検査物の表面の凹凸状欠陥を検出し、第2の撮像手段からの第2の電気信号と予め設定された第2の閾値とを比較して被検査物の色の濃淡ムラ状欠陥を検出する演算装置(14)とを有する。
Claim (excerpt)：
被検査物の表面に光を同軸落射照射する第1の光源と、前記被検査物からの正反射光を受光して第1の電気信号に変換する第1の撮像手段とを含む第1の光学系と、前記被検査物に光を斜射照明する第2の光源と、前記被検査物からの散乱光を受光して第2の電気信号に変換する第2の撮像手段とを含む第2の光学系と、前記第1の撮像手段からの前記第1の電気信号と予め設定された第1の閾値とを比較して前記被検査物の表面の凹凸状欠陥を検出し、前記第2の撮像手段からの前記第2の電気信号と予め設定された第2の閾値とを比較して前記被検査物の色の濃淡ムラ状欠陥を検出する演算装置とを有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2)：
G01N 21/952 ,  G03G 21/00
FI (2)：
G01N 21/952 ,  G03G 21/00
F-Term (12)：
2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AB12 ,  2G051BA01 ,  2G051BB01 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2H134QA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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