欠陥検査方法及びその装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柏木明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996344917
Publication number (International publication number)：1998185834
Application date： Dec. 25, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】傷、ごみなどの高周波欠陥と表面凹凸などの低周波欠陥とを同時に検出できるようにする。【解決手段】直線偏光光が入射される偏光分離素子8を含む照射光学系4により被検査体1表面に光を集光照射し、この被検査体1表面からの反射光を再び偏光分離素子8を通した後、分光手段12により2つの光に分光し、各々の分光光を別個の受光素子14,15で受光し、受光素子14,15の出力結果に基づき被検査体1の欠陥を検出することで、高周波欠陥の場合には光散乱で表面の反射率が低下し、かつ、偏光状態も解消されるので受光素子14,15が受光する受光量が相対的に減少するのに対し、低周波欠陥の場合には表面の反射率の変化は小さいが反射光の方向変動が著しく受光素子14,15間の受光量の差が大きくなるので、高周波欠陥と低周波欠陥とが検出可能となる。

Claim (excerpt)：

直線偏光光が入射される偏光分離素子を含む照射光学系により被検査体表面に光を集光照射し、この被検査体表面からの反射光を再び前記偏光分離素子を通した後、分光手段により少なくとも2つの光に分光し、各々の分光光を別個の受光素子で受光し、これらの受光素子の出力結果に基づき前記被検査体の欠陥を検出するようにしたことを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 , G01B 11/30

FI (2)：

G01N 21/88 Z , G01B 11/30 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭57-131039
表面欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-186799 Applicant：株式会社リコー
特開昭60-245240

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