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J-GLOBAL ID：200903000733146023

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

Inventor： 樽谷 晋司 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006066357
Publication number (International publication number)：2007241108
Application date： Mar. 10, 2006
Publication date： Sep. 20, 2007
Summary：

【課題】PEB温度依存性、ラインエッジラフネス(LWR)、ダーク/ブライトパターン形状差、現像欠陥、及びドライエッチング耐性について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10

F-Term (34)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AL31Q ,  4J100AR32P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA40P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC84P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-209680   Applicant：富士写真フイルム株式会社