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J-GLOBAL ID:200903000943970918

半導体基板洗浄システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (22): 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  橋本 良郎 ,  風間 鉄也 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008102760
Publication number (International publication number):2009253221
Application date: Apr. 10, 2008
Publication date: Oct. 29, 2009
Summary:
【課題】 地震による装置の損傷や危険物漏洩のリスク等を未然に防止することができ、地震等の災害に対する安全性の向上をはかる。【解決手段】 半導体基板の洗浄処理を行うための洗浄装置15を備えた半導体基板洗浄システムにおいて、地震情報を検出する地震検出部11と、地震検出部11で検出された地震情報を基に、洗浄装置15で退避行動を取るべきか否かを判定する判定部12と、判定部12により退避行動を取るべきと判定された場合に、洗浄装置15で予め定められた退避行動を実行する退避行動実行部14とを設けた。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
半導体基板の洗浄処理を行うための洗浄装置と、 地震情報を検出する地震検出部と、 前記地震検出部で検出された地震情報を基に、前記洗浄装置で退避行動を取るべきか否かを判定する判定部と、 前記判定部により退避行動を取るべきと判定された場合に、前記洗浄装置で予め定められた退避行動を実行する退避行動実行部と、 を具備したことを特徴とする半導体基板洗浄システム。
IPC (2):
H01L 21/304 ,  H01L 21/02
FI (2):
H01L21/304 648H ,  H01L21/02 Z
F-Term (17):
5F157AB03 ,  5F157AB48 ,  5F157AB51 ,  5F157BB66 ,  5F157CD29 ,  5F157CE03 ,  5F157CE11 ,  5F157CE21 ,  5F157CE31 ,  5F157CE59 ,  5F157CF42 ,  5F157CF50 ,  5F157DA01 ,  5F157DA21 ,  5F157DA31 ,  5F157DA41 ,  5F157DC84
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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