制御システム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井内龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004277007
Publication number (International publication number)：2006092272
Application date： Sep. 24, 2004
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：

【課題】ソフトウェアの開発効率を高めることができ、また、プログラミングの知識を有しない者であっても、所望の目的を達成するソフトウェアを構築することができる制御システムを提供すること。【解決手段】製品の検査などを行うプログラムを実行する機能を備えた制御システムにおいて、ある目的を達成するためのモジュールを格納する記憶装置15と、モジュールから呼び出されるファンクションを格納する記憶装置16と、使用者が操作し得るキーボード11、マウス12から得られる、使用者によるモジュール選択情報に基づいて、記憶装置15に格納されているモジュールを抽出するモジュール抽出手段と、抽出されたモジュールを、所定の順番に実行していくモジュール実行手段とを備えると共に、記憶装置15に格納されているモジュールそれぞれを独立した構成にする。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

製品の検査などを行うプログラムを実行する機能を備えた制御システムにおいて、ある目的を達成するためのモジュールを格納するモジュール格納手段と、前記モジュールから呼び出されるファンクションを格納するファンクション格納手段と、使用者が操作し得る操作手段から得られる、前記使用者によるモジュール選択情報に基づいて、前記モジュール格納手段に格納されているモジュールを抽出するモジュール抽出手段と、該モジュール抽出手段により抽出されたモジュールを、所定の順番に実行していくモジュール実行手段とを備えると共に、前記モジュール格納手段に格納されているモジュールそれぞれが、独立した構成になっていることを特徴とする制御システム。

IPC (1)：

G06F 9/44

FI (1)：

G06F9/06 620K

F-Term (4)：

5B076AB17 , 5B076DD06 , 5B176AB17 , 5B176DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

パターン検査方法及びパターン検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-344760 Applicant：株式会社東芝
特開平3-008021
プロセス制御システムの構築装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-110778 Applicant：横河電機株式会社

Cited by examiner (4)

特開平3-008021
プロセス制御システムの構築装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-110778 Applicant：横河電機株式会社
特開平3-008021

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