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J-GLOBAL ID：200903001000439934

ポリシロキサン

Inventor：
岩沢 晴生

About 岩沢 晴生

, 
山原 登

About 山原 登

, 
下川 努

About 下川 努


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001300517
Publication number (International publication number)：2002194085
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ドライエッチング耐性に優れ、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度、現像性等のレジストとしての基本物性にも優れたレジスト材料の樹脂成分等として有用な新規ポリシロキサンを提供する。【解決手段】 下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が500〜1,000,000のポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Xは水素原子または1価の酸解離性基を示し、R''は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、nは0〜3の整数である。〕
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算重量平均分子量が500〜1,000,000のポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Xは水素原子または1価の酸解離性基を示し、R''は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、nは0〜3の整数であり、式中の各ケイ素原子は最上位にあるビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環の2-位または3-位に結合している。〕
IPC (3)：
C08G 77/26 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3)：
C08G 77/26 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (25)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J035BA04 ,  4J035BA14 ,  4J035CA01N ,  4J035CA022 ,  4J035CA152 ,  4J035CA192 ,  4J035LA05 ,  4J035LB16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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