観察装置およびその製造方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000370871
Publication number (International publication number)：2002175964
Application date： Dec. 06, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】波面収差の高次収差成分を含む残存収差を良好に補正することのできる観察装置の製造方法。【解決手段】結像光学系(7,6,10,11,12(14))を介して形成された被検面(WM)の像を観察する観察装置の製造方法。結像光学系に残存する残存収差を計測する収差計測工程と、残存収差を補正するために、少なくとも一方の面が非球面形状に形成された補正板(17)を結像光学系の光路中の所定位置に設置する設置工程とを含む。

Claim (excerpt)：

結像光学系を介して形成された被検面の像を観察する観察装置において、前記結像光学系の光路中に配置された補正板を備え、前記補正板の少なくとも一方の面は、前記結像光学系に残存する収差を補正するための所要の形状に形成されていることを特徴とする観察装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 R , H01L 21/30 516 A

F-Term (5)：

5F046DA13 , 5F046FA17 , 5F046FB11 , 5F046FB12 , 5F046FB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

コマ収差補正装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-326156 Applicant：ソニー株式会社
収差補正装置及びこれを用いた光ピックアップ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-033585 Applicant：パイオニア株式会社
光学系の検査装置および該検査装置を備えた位置合わせ装置並びに投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-016424 Applicant：株式会社ニコン

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