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J-GLOBAL ID：200903001098567013

パターン形成材料、パターン形成方法および光ディスク

Inventor： 桑原 正史 ,  富永 淳二 ,  金 朱鎬
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004244201
Publication number (International publication number)：2006062101
Application date： Aug. 24, 2004
Publication date： Mar. 09, 2006
Summary：

【課題】 微細でアスペクト比の高いパターンを安価な方法で形成する。【解決手段】 基板上に形成されたパターン形成材料であって、加熱されることにより、相互に反応して体積が膨張する第1の反応層および第2の反応層と、加熱されることにより、体積が膨張する第3の反応層と、を有することを特徴とするパターン形成材料。【選択図】 図5

Claim (excerpt)：

基板上に形成されたパターン形成材料であって、 加熱されることにより、相互に反応して体積が膨張する第1の反応層および第2の反応層と、 加熱されることにより、体積が膨張する第3の反応層と、を有することを特徴とするパターン形成材料。

IPC (3)：

B32B 7/02 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/26

FI (3)：

B32B7/02 105 ,  G11B7/24 531A ,  G11B7/26 501

F-Term (27)：

4F100AA17D ,  4F100AA20B ,  4F100AA25B ,  4F100AB01C ,  4F100AB02C ,  4F100AB15C ,  4F100AR00E ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100GB41 ,  4F100HB00B ,  4F100HB00C ,  4F100HB00D ,  4F100JA02B ,  4F100JA02C ,  4F100JA02D ,  4F100JK11E ,  4F100JL02 ,  5D029KB02 ,  5D121BA05 ,  5D121BB11 ,  5D121BB18 ,  5D121BB32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• パターン形成材料およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-308679   Applicant：三星電子株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
• 光情報記録媒体の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-249493   Applicant：松下電器産業株式会社
• 反応拡散を利用する記録方法、この方法を利用する記録媒体及びこの記録媒体を利用する記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-092662   Applicant：三星電子株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
• 超解像度近接場構造の記録媒体、記録方法及び再生方法、及び記録装置及び再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-006292   Applicant：日本サムスン株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, TDK株式会社

Cited by examiner (3)

• パターン形成材料およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-308679   Applicant：三星電子株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
• 反応拡散を利用する記録方法、この方法を利用する記録媒体及びこの記録媒体を利用する記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-092662   Applicant：三星電子株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
• 光情報記録媒体の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-249493   Applicant：松下電器産業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• Microelectronic Engineering, 200406, Vol.73-74, p.69-73

Cited by examiner (2)

• Microelectronic Engineering, 200406, Vol.73-74, p.69-73
• Microelectronic Engineering, 200406, Vol.73-74, p.69-73