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J-GLOBAL ID:200903001105252740
光ディスク原盤作製方法及び作製装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000123153
Publication number (International publication number):2001307385
Application date: Apr. 24, 2000
Publication date: Nov. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 電子線を用いた光ディスク原盤作製において、電子線を原盤の所定の位置に正確に照射する。【解決手段】 原盤カッティング時に、原盤が1回転する間に複数のトラックを形成できるようにした。また、原盤と電子銃の対物レンズとの間の距離が一定になるよう制御機構を設けた。
Claim (excerpt):
回転する原盤に電子線を用いてパターンを描画する光ディスク原盤作製方法において、原盤が1回転する間に複数のトラックのパターンを描画することを特徴とする光ディスク原盤作製方法。
IPC (4):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 504
, G11B 7/007
FI (4):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 504
, G11B 7/007
F-Term (20):
2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097BB03
, 2H097CA16
, 2H097LA20
, 5D090AA01
, 5D090BB01
, 5D090CC01
, 5D090CC14
, 5D090DD01
, 5D090FF22
, 5D090GG02
, 5D090KK13
, 5D090KK14
, 5D090KK17
, 5D121AA02
, 5D121BB32
, 5D121BB38
, 5D121BB40
, 5D121GG02
Patent cited by the Patent:
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