研磨材

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999175226
Publication number (International publication number)：2001003034
Application date： Jun. 22, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】研磨性、耐傷つき性等の研磨特性及び透明性に優れた研磨材及び該研磨材を含有してなる洗浄剤を提供すること。【解決手段】トリジマイト及び/又はクリストバライトの結晶相を有する結晶からなる研磨材、並びに該研磨材を含有してなる洗浄剤。

Claim (excerpt)：

トリジマイト及び/又はクリストバライトの結晶相を有する結晶からなる研磨材。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 , C01B 33/12 , C11D 3/14

FI (3)：

C09K 3/14 550 D , C01B 33/12 B , C11D 3/14

F-Term (30)：

4G072AA25 , 4G072AA35 , 4G072BB05 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072GG02 , 4G072HH14 , 4G072HH23 , 4G072HH36 , 4G072MM01 , 4G072MM02 , 4G072MM26 , 4G072MM36 , 4G072RR13 , 4G072TT01 , 4G072TT30 , 4G072UU30 , 4H003BA10 , 4H003DA06 , 4H003DA08 , 4H003DA09 , 4H003DA17 , 4H003DA20 , 4H003EA24 , 4H003EA25 , 4H003EA27 , 4H003FA05 , 4H003FA10 , 4H003FA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭59-093798
微細な結晶質シリカの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-035047 Applicant：富士化学株式会社
電子写真感光体用リファイナー及びリファイニング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-041798 Applicant：コニカ株式会社

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