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J-GLOBAL ID:200903001127467112

ゲート回路及びそれを含む半導体装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 武 顕次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992063617
Publication number (International publication number):1993268058
Application date: Mar. 19, 1992
Publication date: Oct. 15, 1993
Summary:
【要約】【目的】 MOSFETのホットキャリア耐圧やドレイン・ソース間耐圧より電源電圧を高くしても、そのゲート耐圧を充分に確保できるゲート回路の提供。【構成】 電源端子8と出力端子7間に接続された第1素子1及び出力端子7と接地端子9間に接続された第2素子2からなり、出力端子7に接続の負荷を駆動する出力段と、駆動用MOSFET3及び一定電圧降下素子5と電荷引抜用のMOSFET4との直列接続体からなり、第1素子1及び/または第2素子2の入力電極に接続された駆動段とを有するゲート回路であって、駆動用のMOSFET3の導電型と電荷引抜用のMOSFET4の導電型とが互いに相補であり、かつ、駆動用のMOSFET3のゲート酸化膜の厚みが電荷引抜用のMOSFET4のゲート酸化膜の厚みよりも厚く構成されている。
Claim (excerpt):
一方の電源端子と出力端子間に接続された第1の素子及び前記出力端子と他方の電源端子間に接続された第2の素子からなり、前記出力端子に接続の負荷を駆動する出力段と、少なくとも駆動用の絶縁ゲート型FET及び一定電圧降下素子と電荷引抜用の絶縁ゲート型FETとの直列接続体からなり、前記第1の素子及び/または第2の素子の入力電極に接続された駆動段とを有するゲート回路において、前記駆動用の絶縁ゲート型FETの導電型と前記電荷引抜用の絶縁ゲート型FETの導電型とが互いに相補であり、かつ、前記駆動用の絶縁ゲート型FETのゲート絶縁膜の厚みと前記電荷引抜用の絶縁ゲート型FETのゲート酸化膜の厚みとが異なっていることを特徴とするゲート回路。
IPC (3):
H03K 19/08 ,  H01L 21/31 ,  H01L 27/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平4-011134
  • 特開昭64-017912
  • 特開昭64-075742
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