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J-GLOBAL ID:200903001143184864
画像処理装置、画像処理方法および記録物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (8):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005015627
Publication number (International publication number):2006203787
Application date: Jan. 24, 2005
Publication date: Aug. 03, 2006
Summary:
【課題】記録面上に記録画像が目視確認できる状態でホログラム等を含む光学セキュリティ層およびまたは保護層が設けられている記録物でも、光学セキュリティ層およびまたは保護層の記録画像に対する光学遮蔽度に影響を受けないで、常に安定した副情報の復元性能を得ることができる画像処理装置を提供する。【解決手段】可視状態の主画像情報に不可視状態で副情報を埋め込むことで合成画像情報を作成し、作成した合成画像情報を記録媒体に可視状態で記録する画像処理装置において、記録媒体上に設けられるホログラム等を含む光学セキュリティ層および保護層の光学遮蔽度の分布情報を記憶しておくとともに、光学遮蔽度の分布と副情報の埋め込み強度との関係情報を記憶しておき、これら情報に基づき副情報の埋め込み強度を決定し、決定された副情報の埋め込み強度に基づき主画像情報に対して不可視状態で副情報を埋め込むことで合成画像情報を作成し、作成した合成画像情報を記録媒体に可視状態で記録する。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
可視状態の主画像情報に対して不可視状態で副情報を埋め込むことによって合成画像情報を作成し、この作成した合成画像情報を記録媒体の記録面上に可視状態で記録する画像処理装置において、
前記記録媒体の記録面上に記録画像が目視確認できる状態で設けられる光学セキュリティ層およびまたは保護層の当該記録画像に対する光学遮蔽度の分布情報を記憶した第1の記憶手段と、
前記光学遮蔽度の分布と副情報の埋め込み強度との関係情報を記憶した第2の記憶手段と、
前記第1の記憶手段に記憶された光学遮蔽度の分布情報を基にして、前記第2の記憶手段に記憶された光学遮蔽度の分布と副情報の埋め込み強度との関係情報を参照することにより、副情報の埋め込み強度を決定する埋め込み強度処理手段と、
この埋め込み強度処理手段により決定された副情報の埋め込み強度に基づき主画像情報に対して不可視状態で副情報を埋め込むことによって合成画像情報を作成する埋め込み処理手段と、
この埋め込み処理手段により作成された合成画像情報を記録媒体の記録面上に可視状態で記録する記録処理手段と、
を具備したことを特徴とする画像処理装置。
IPC (3):
H04N 1/387
, G03H 1/18
, G06T 1/00
FI (3):
H04N1/387
, G03H1/18
, G06T1/00 500B
F-Term (13):
2K008AA00
, 2K008AA08
, 2K008AA13
, 2K008CC01
, 2K008DD01
, 2K008EE04
, 2K008FF12
, 5B057AA11
, 5B057CB19
, 5B057CE08
, 5B057CH11
, 5C076AA14
, 5C076BA06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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特許第2840825号公報
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画像記録/再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-057529
Applicant:株式会社東芝
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画像情報処理方法および証明書等の偽造防止方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-163558
Applicant:株式会社東芝
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Cited by examiner (6)
-
ハードコピー保護文書を作成、検証するシステムおよび方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-418246
Applicant:ゼロックスコーポレイション
-
特許第2840825号
-
情報処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-078885
Applicant:株式会社東芝
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