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J-GLOBAL ID：200903001158493197

気体中に含まれるガス状物質の除去方法及び装置

Inventor：
三浦 光

About 三浦 光


Applicant, Patent owner：
学校法人日本大学

About 学校法人日本大学


Agent (1)： 古宮 一石
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004065337
Publication number (International publication number)：2005254043
Application date： Mar. 09, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：
【課題】処理しようとするガス状物質を含む気体と霧状の処理する液体を接触させて、気体中に含まれる処理しようとするガス状物質を含む気体を除去する新規なガス除去方法及び装置の提供。【解決手段】吸収除去しようとするガス状物質を含む気体と前記ガス状物質を吸収する液体と接触させて前記ガス状物質を吸収除去する方法において、前記液体を霧状で存在させた状態で、前記気体と液体に振動板による超音波振動を与えつつ、両者を接触させることを特徴とするガス状物質を含む気体と前記ガスを吸収する液体と接触させて、ガス状物質を液体に吸収させて除去することを特徴とする吸収除去しようとするガス状物質を含む気体と前記ガス状物質を吸収する液体と接触させて前記ガス状物質を吸収除去する方法及び装置。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
吸収除去しようとするガス状物質を含む気体と、前記ガス状物質を吸収する液体を接触させて前記ガス状物質を吸収除去する方法において、前記液体を霧状で存在させた状態で、前記気体と液体に振動板による超音波振動を与えつつ、接触させることを特徴とするガス状物質を含む気体と前記ガスを吸収する液体と接触させて、ガス状物質を液体に吸収させて除去することを特徴とする吸収除去しようとするガス状物質を含む気体と前記ガス状物質を吸収する液体を接触させて前記ガス状物質を吸収除去する方法。
IPC (2)：
B01D53/18 ,  B01D47/06
FI (2)：
B01D53/18 Z ,  B01D47/06 Z
F-Term (9)：
4D020AA00 ,  4D020AA08 ,  4D020BA23 ,  4D020CB40 ,  4D020CC21 ,  4D020CD10 ,  4D032AE10 ,  4D032BA06 ,  4D032BB20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 液体原料供給装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-129592   Applicant：株式会社東芝
  • 芳香装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-261215   Applicant：愛三工業株式会社
  • 噴霧装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-333572   Applicant：オムロン株式会社
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