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J-GLOBAL ID：200903001199525087

被吸着体の離脱装置および被吸着体の離脱方法およびプラズマ処理装置

Inventor：
岩田 輝夫

About 岩田 輝夫


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992355240
Publication number (International publication number)：1994188305
Application date： Dec. 17, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被吸着体を吸着する静電チャックより被吸着体を離脱する際、被吸着体にイオン化手段によりイオン化された不活性ガスを供給することにより前記吸着体およびこの被吸着体を吸着する静電チャックに残留する残留電荷をより完全かつ短時間で除電することができるので、前記静電チャックから被吸着体を効率的に離脱する離脱装置を提供するものである。【構成】 被吸着体Wを静電的に吸着する静電チャック7と、前記被吸着体Wまたは静電チャック7の少なくとも一方に不活性ガスを供給するガス供給手段8と、前記不活性ガスをイオン化するイオン化手段43とを設け構成されたものである。
Claim (excerpt)：
被吸着体を静電的に吸着する静電チャックと、前記被吸着体または静電チャックの少なくとも一方に不活性ガスを供給するガス供給手段と、前記不活性ガスをイオン化するイオン化手段とを設けたことを特徴とする被吸着体の離脱装置。
IPC (5)：
H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-289046
  • 静電吸着装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-230939   Applicant：大見忠弘
  • 静電チヤツク
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-160565   Applicant：株式会社東芝

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