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J-GLOBAL ID:200903001255360754

後処理装置、および、後処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004333299
Publication number (International publication number):2005206374
Application date: Nov. 17, 2004
Publication date: Aug. 04, 2005
Summary:
【課題】 駆動信号(例えば、駆動電流)のピーク値を低減し、電源の負荷を低減させること。後処理装置の動作速度を低減して、後処理作用部材の動作音の低減を図ること。【解決手段】 後処理動作の動作状態を検知し、検知結果に基づいて後処理動作の開始後の所定の期間において駆動信号を制限する(例えば、駆動電流に上限値を設定し、ピーク値を制限して低減する)。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
画像形成装置から出力されたシートを装置本体内に搬送するシート搬送手段と、 前記装置本体内に搬送された複数の前記シートを、シート束として後処理を施す後処理手段と、 前記後処理手段による後処理動作の動作状態に基づいて、該後処理動作の開始後の所定期間において前記後処理手段を駆動するための駆動信号の値を制限する駆動信号制限手段と、 前記シート束へ後処理を行った後、該後処理されたシート束を積載するシート束積載手段と を具えたことを特徴とする後処理装置。
IPC (1):
B65H37/04
FI (1):
B65H37/04 D
F-Term (6):
3F108GA01 ,  3F108GB01 ,  3F108GB07 ,  3F108HA02 ,  3F108HA32 ,  3F108HA43
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (3)

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