ポジ型感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994016941
Publication number (International publication number)：1995209861
Application date： Jan. 18, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】テルペンフェノール類と1,2-ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとのエステル化反応により得られるエステル体とアルカリ可溶性樹脂とを含有するポジ型フォトレジスト組成物を溶媒に溶解し感光液とする。この感光液をシリコンウェハーの様な基板上に塗布し、次にベークし乾燥させた後、微細パターンの描かれているマスクを通して紫外線等の放射線を照射し、更にベークし次いでアルカリ水溶液で現像処理することによりレジストパターンを得る。【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、解像性が極めて高く、得られたレジストパターン形状も優れているため半導体集積回路の製造に極めて有用である。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂及び式(1)【化1】(式中、Dは水素原子あるいは、1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニル基を示す。ただし、少なくともどちらか1つは1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニル基を示す。Rは-H、-OH、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールアルキル基、アシル基、アシルオキシ基を示す。l,mは1〜3の整数。)で示される感放射線性化合物を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-305938 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-048199 Applicant：日本石油株式会社

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