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J-GLOBAL ID：200903001342623915

テラヘルツ帯光学フィルタおよびその製造方法

Inventor：
松本 直樹

About 松本 直樹


Applicant, Patent owner：
株式会社村田製作所

About 株式会社村田製作所


Agent (2)： 小森 久夫 ,  村上 辰一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005379548
Publication number (International publication number)：2007178886
Application date： Dec. 28, 2005
Publication date： Jul. 12, 2007
Summary：
【課題】少ない積層数で低コストに製造でき、且つ波長選択性が高い所望の帯域通過特性を有する多重キャビティ型のテラヘルツ帯光学フィルタを得る。【解決手段】第1のキャビティ層11の両端を、屈折率比が2以上となる高屈折率媒質1および低屈折率媒質2の層を1層ずつ積層してなる基本格子3で挟み、この基本格子3のさらに両端に、光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、第1のキャビティ層11に用いる低屈折率媒質4より屈折率の高い高屈折率媒質5からなる第2・第3のキャビティ層12,13を配置して誘電体多層周期構造体を成す。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
テラヘルツ帯で帯域通過特性を有する誘電体多層周期構造を備えたフィルタであって、 光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、低屈折率媒質からなる第1のキャビティ層を備え、該第1のキャビティ層の両端を、光路長がそれぞれ1/4波長であり、屈折率比が2以上となる高屈折率媒質および低屈折率媒質の層を1層ずつ積層してなる基本格子で挟み、この基本格子のさらに両端に、光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、前記第1のキャビティ層に用いる低屈折率媒質より屈折率の高い高屈折率媒質からなる第2・第3のキャビティ層を配置して誘電体多層周期構造体を成したことを特徴とするテラヘルツ帯光学フィルタ。
IPC (1)：
G02B 5/28
FI (1)：
G02B5/28
F-Term (5)：
2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA30 ,  2H048GA32 ,  2H048GA62
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • テラヘルツ帯光学素子用の薄膜形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-275211   Applicant：独立行政法人通信総合研究所
  • 光学素子
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-508809   Applicant：テヒニシェ・ウニベルジテート・ブラウンシュバイク・カロロ-ビルヘルミナ
  • 調整可能な光学フィルタリング部品
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-544506   Applicant：アトメルグルノーブルソシエテアノニム

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